NEC 중국반도체증산 삭감

　일본 NEC가 중국 상하이 반도체 합작 공장의 생산라인 증설계획을 당초의 절반수준으로 축소한다고 ‘일본경제신문’이 보도했다.

　이에 따르면 이 회사는 올해말까지 상하이화홍(華虹)NEC전자에 350억엔을 투입해 8인치 웨이퍼 환산 월간 생산능력을 현재의 2만장에서 3만장으로 1만장 늘리려 했던 계획을 하향조정, 투자액은 200억엔으로, 증산규모도 5000장으로 낮추기로 했다.

　상하이화홍NEC전자는 중국정부의 반도체 프로젝트 일환으로 NEC가 현지 투자회사와 공동설립한 반도체공장으로서 현재 주로 D램을 생산하고 있지만 이번 라인증강을 계기로 휴대폰과 가전용 LSI 생산도 본격화, 현지업체에 판매할 예정이다.

　NEC가 이 공장에 대한 투자를 대폭 줄이는 것은 현지 수요업체가 재고조정을 추진하고 있어 LSI 등의 현지생산을 크게 늘릴 경우 공급과잉에 빠질 가능성이 높기 때문으로 분석된다.

　이 회사는 지난달말 2001 사업연도(2001년 4월∼2002년 3월) 반도체 투자액을 전년 대비 34% 줄어든 1440억엔으로 결정, 발표했다. D램 주력공장인 NEC히로시마에 대한 투자비도 전년의 절반인 110억엔으로 대폭 줄일 계획이다.

　<신기성기자 ksshin@etnews.co.kr>