반도체 초미세회로 형성 가능한 ArF 광원용 포토레지스트 상용화 활기

국내 반도체 소자업체 및 화학재료업체들은 현재 반도체 노광공정(microlithography)에 사용되는 불화크립톤(KrF) 광원용 감광제를 대체할 것으로 예상되는 차세대 제품으로 회로선폭 0.10㎛(1미크론은 100만분의 1m)까지 형성할 수 있는 193㎚ 파장의 불화아르곤(ArF) 광원용 감광제 기술의 수출 및 상용화에 나섰다.

7일 관련업계에 따르면 감광제는 반도체 제조 핵심공정인 사진식각공정에서 설계된 회로를 웨이퍼에 전사할 때 사용하는 감광성 고분자 재료로 반도체 제조공정의 성패를 좌우하는 핵심소재로 현대전자·삼성전자 등 국내 소자업체들은 감광제를 개발, 기술을 수출하고 있으며 동진쎄미켐·금호석유화학은 감광제의 양산에 나서기로 했다.

이에 따라 반도체 소자업체들은 앞으로 차세대 ArF 감광제를 저렴한 가격에 안정적으로 확보할 수 있게 돼 원료비용 절감은 물론, 감광제 제조에 사용하는 재료도 국산화함으로써 앞으로 수입대체효과도 기대되고 있다.

현대전자(대표 박종섭 http://www.hei.co.kr)는 최근 4기가 D램 생산에 사용하는 ArF 감광제 양산기술을 동진쎄미켐과 스위스의 클라리언트에 이전하는 등 6000만달러 이상의 로열티 수익을 기대하고 있다.

삼성전자(대표 윤종용 http://www.sec.co.kr)는 최근 반도체 회로선폭 0.10㎛ 기술을 구현할 수 있는 새로운 감광제 기술을 개발하고 관련 업체에 기술이전을 추진하고 있는데 앞으로 10년동안 600만달러 이상의 로열티 수입을 올릴 계획이다.

동진쎄미켐(대표 이부섭 http://www.dongjin.com)은 ArF용 감광제의 사업화에 나서 하반기 가동예정인 경기도 발안공장 2단지에 ArF용 감광제 전용 생산라인을 갖추고 본격 생산에 들어갈 예정이다.

금호석유화학(대표 박찬구 http://www.kkpc.co.kr)은 현대전자와 공동으로 최근 ArF 광원용 감광제 시제품을 개발한 데 이어 8월중으로 노광장비를 구입해 상품화에 착수하는 한편, 아산의 반도체 케미컬 생산공장에서 양산에 들어갈 계획이다.

<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>