<세미콘코리아 2000 특집>크린크리에티브의 반도체용 케미컬

크린크리에티브(대표 이병구)는 이번 전시회에 반도체 전·후공정과 웨이퍼 제조에 활용되는 반도체용 케미컬을 출품한다.

반도체 공정에서 활용되는 재료로는 반도체 포토마스크 공정에 사용하는 현상액(Developer)과 반도체의 인터커넥션 공정에서 잔유물 세정에 활용되는 폴리머 세척재료(Polymer Remover) 등이 있다.

또 유기감광제의 일종으로 포토마스크 공정에서 DUV 포토레지스트로부터 발생하는 간섭현상을 방지하는 재료인 BARC와 트랜지스터·IC·VLSI 등을 패키징하는 데 활용되는 EMC도 전시된다.

웨이퍼 제조 재료쪽으로는 웨이퍼 가공시 웨이퍼 표면을 세제하는 폴리싱 슬러리와 웨이퍼 가공공정후 금속불순물을 제거하는 애시드 클리너 등이 선보인다. LCD와 PDP 공정에서 활용되는 소재로는 기판 에지 부위에 남아 있는 불필요한 잔유물을 제거하는 BGC가 출품된다.

크린크리에티브는 반도체 및 TFT LCD 제조에 활용되는 반도체용 케미컬 전문업체로 지난 90년 설립됐다.