고등기술硏, 플라즈마 이온질화장치 개발

고등기술연구원(사장 임효빈)은 독일 IOPW(플라즈마 표면공학연구소)와 공동으로 폐기물의 발생없이 금속 재료의 표면을 강화하는 플라즈마 이온질화장치를 국산화했다고 2일 발표했다.

이번에 국산화에 성공한 플라즈마 이온질화장치는 자동차나 기계산업에서 많이 사용하는 소결부품의 표면 강도를 강화하는 표면처리장치로 설비 제작부터 공정처리까지 전과정을 자체 기술로 개발한 것이다.

특히 플라즈마 발생장치 내부에 재료와 부품 등 표면처리 대상물을 집어 넣고 높은 전압을 걸어 펄스 형태의 플라즈마를 발생시키면 용기안의 질소가스와 피처리물이 반을을 일으켜 강화된 질화물이 형성되면서 표면처리가 이루어지는 고로(hot wall)방식의 플라즈마 이온질화장치로 설계, 화학적 표면처리가 불가능했던 정밀제품도 적은 비용으로 표면처리가 가능한 것이 특징이다.

이와 함께 소재 변형없이 섭씨 4백도에서도 높은 강도를 실현할 수 있는 표면처리가 가능하며 시안폐액이나 암모니아 가스 등 악성 폐기물을 배출하는 기존 표면처리 방식에 비해 인체에 무해한 질소가스를 사용, 후처리 비용이 필요없다.

고등기술연구원은 기술적 보안을 통해 향후 2년 이내에 플라즈마 이온질화시스템을 실용화할 계획이다.

<정창훈 기자>