일본의 주요 반도체 제조장비업체인 니콘과 캐논이 불화아르곤(ArF) 엑시머 레이저를 광원으로 하는 차세대 스테퍼(축차이동식노광장치)의 공급시기를 앞당긴다.
일본 「日經産業新聞」 최근 보도에 따르면 니콘과 캐논은 오는 2000년 이후로 계획했던 ArF 엑시머 스테퍼의 시제품 생산 시기를 각각 99년 중반과 내년 말로 앞당겨, 늦어도 2000년께는 양산라인용 제품을 본격 공급할 방침이다.
이를 통해 양사는 ArF 엑시머 스테퍼를 1GD램 생산에 필요한 회로선폭 0.15미크론급 초미세가공용 주력제품으로 빠르게 정착시켜 나갈 계획이다.
ArF 엑시머 스테퍼는 파장 0.19미크론의 ArF 엑시머레이저를 광원으로 하는 제품으로 일반 해상도기술을 채용할 경우 0.18-0.15미크론, 고해상도 기술을 적용할 경우는 0.13미크론까지 미세가공이 가능해 1GD램 생산에 부응하는 제조장비로 손꼽히고 있다.
양사가 이 제품의 투입시기를 앞당기는 이유는 △반도체업체들이 초미세화의 속도를 높이고 있어 99년까지는 일정규모의 수요가 예상되고 △ 불화클립톤(KrF) 엑시머 스테퍼의 출하가 본격화돼 개발투자를 ArF에 집중시킬 수 있으며 △ ArF노광에 필요한 고감도 레지스트(강광제)와 고정밀 마스크제조장비의 개발이 진척돼 99년 초에는 실용화가 가능한 수준까지 올라설 것으로 예상되기 때문이다.
<심규호 기자>
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