차세대 반도체용 포토마스크 「PSM」 국내 생산 활기

그간 전량 수입에 의존해온 차세대 반도체용 포토마스크인 「페이스 시프트 마스크(PSM)」의 국내생산이 활발하다.

6일 관련업계에 따르면 한국듀폰과 피케이 등 국내 포토마스크 생산업체들은 최근들어 생산이 본격화되고 있는 64MD램과 2백56MD램 등 차세대 메모리는 물론 고성능 ASIC 등 서브하프 미크론급 반도체의 개발 및 상품화 지원을 위해 그동안 샘플 생산해온 PSM을 이달부터 월 50∼80장 규모로 본격적인 양산에 나서고 있다.

PSM은 64MD램 기준으로 전체 소요되는 20여장의 마스크 가운데 3, 4장 정도만이 사용되지만 초미세 회로선폭 디자인의 최대 문제점인 빛의 간섭으로 인한 해상도 저하를 막아주는 핵심 제품으로 국내에서도 이미 16MD램 3세대 제품부터 일본 등에서 전량 수입, 사용해 왔다.

한국듀폰은 이천공장에 월 1백장 생산능력을 갖춘 i라인 임베디드용 PSM 생산라인을 구축하고 이달부터 30장 이상씩 생산키로 했다. 듀폰은 투과율 8% 미만인 크롬레이어를 주 재료로 사용한 이 제품의 생산량을 L사와 H사의 품질승인이 완료되는 연말부터 크게 늘려 나갈 계획이다.

피케이는 충남 천안공장에 외부 빛 차단효과가 우수한 몰리실리(MOSI)층을 주 재료로 한 PSM 생산라인을 구축하고 있는데 이달부터 월 60장 이상씩 양산하고 연말까지 PSM 원재료의 자급률을 높여 생산량을 80장 이상으로 늘려 나가는 한편 차세대 DUV용 PSM도 개발할 방침이다.

업계의 한 관계자는 『차세대 제품의 양산에 편승해 수요가 폭발적으로 늘 것으로 예상되는 PSM은 그간 재료 및 제조공법의 특허문제 등 까다로운 조건 때문에 국산화에 어려움이 많아 수입에 전량 의존해왔다』고 설명하며 『국내 포토마스크 업체들의 본격적인 생산으로 64MD램 이상의 메모리제품과 DSP, 알파칩, ASIC 등을 주력 생산하는 소자업체들의 차세대 제품 디자인 경쟁력 제고는 물론 수입대체 효과도 커 올해에만 2천만달러 이상의 수입대체가 가능할 것』으로 기대했다.

<김경묵 기자>