현대전자(대표 정몽헌)가 차세대 4GD램 제조에까지 대응 가능한 아르곤 플로라이드(ArF) 감광제를 개발했다.
현대가 작년 10월부터 총 35억원의 개발비를 들여 개발한 이 감광제는 0.13미크론급의 초미세 회로 형성이 가능한 차세대 제품으로 향후 기가 D램 반도체 제조의 성패를 좌우하는 핵심 재료이다. 현재 일본에서도 20여개 소자 및 화학약품 업체들이 컨소시엄을 구성,이 제품의 개발을 추진중이나 실제 메모리 칩에 적용된 사례는 없어 실용화측면에서는 세계적으로도 이번이 처음이라고 현대측은 주장했다.
이번 감광제 개발과 관련 이미 4개 특허를 출원해 놓고 있는 현대전자는 아르곤 플로라이드 감광제 기술을 자사 반도체 생산에 적극 활용하는 한편 국내 화학 전문회사에 관련 기술을 제공, 이 제품을 위탁 생산하는 방안도 검토중이다.
흔히 포토레지스트(Photo Resist)라 불리는 감광제는 설계된 반도체 회로를 웨이퍼상에 전사할 때 빛의 조사 여부에 따라 달리 감응함으로써 미세 회로 패턴을 형성할 수 있도록 해주는 반도체용 첨단 재료로 특히 아르곤 플로라이드 감광제의 경우 그 도입이 본격화될 2006년 경에는 연간 3천억원 규모의 시장을 형성할 것으로 현대측은 예상했다.
<김경묵 기자>
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