日 미쓰비시 머티리얼, 유전체메모리 양산 추진

일본 미쓰비시 머티리얼이 반도체 메모리용 유전체 양산 공장을 건설한다.

일본 「電波新聞」 보도에 따르면 미쓰비시 머티리얼은 반도체메모리용 유전체 양산기술이 확립됨에 따라 효고縣 신다공장에 전용공장을 건설, 우선 반도체의 박막성형에 사용되는 졸겔액과 스파타링 타겟 등을 생산하고 이어 유기금속화학적증착에 사용되는 재료(MOCVD재료) 생산에서 나서기로 했다.

일반적인 메모리 D램에는 박막재료에 이산화 규소가 사용되고 있지만 이 재료는 2백26MB를 넘는 초 고집적에서는 유전율이 부족하게 된다. 이 때문에 보다 유전율이 높은 티탄酸 바리움스토론티움, 특히 강유전체 메모리에는 PLZT(티탄酸 지르콘酸 鉛란탄)과 SBT(탄탈酸 스트론티움비스마스) 사용이 검토되고 있다.

이 박막성형에 사용되는 제품이 졸겔액 및 스파타링 타겟으로 미스비시 머티리얼은 고휘도 低파티클, 대구경화 등의 남아있던 문제점을 재료의 개선으로 해결했다.

졸겔액은 순도 5N, 타겟은 최대 구경 13인치까지 사용할 수 있다. 이 회사는 사용업체에 박막성형기술은 물론 막 특성을 평가해 주는 서비스도 실시할 계획이다.

이 회사는 3년후에 매출 목표를 20억엔으로 잡고 있으며 고품질, 고성능 디바이스제조업체로 자리잡아 나간다는 계획을 세우고 있다. 신축되는 전용공장은 올 12월말 완공을 목표로 최근 착공됐다. 총투자비는 20억엔이다.

<박주용 기자>