日 샤프, 0.25미크론 반도체생산 앞당겨

일본 샤프가 이르면 내년 7월부터 0.25미크론급 미세가공기술을 이용해 32M이상급 대용량 플래시메모리를 생산한다.

「日刊工業新聞」에 따르면 샤프는 당초 99년 3월로 계획했던 후쿠야마공장의 0.25미크론 생산설비 가동시기를 9개월 가량 앞당겨, 대용량 플래시메모리를 조기 양산한다.

샤프가 0.25미크론 미세가공설비를 도입하는 후쿠야마 제 4공장은 오는 8월 완공된다. 샤프는 당초부터 이 공장에 0.25미크론 미세가공설비를 도입하지만, 내년 중반까지는 0.35미크론 제품만을 생산한다. 또 0.25미크론 제품 생산이 시작되는 내년 7월 이후에도 99년 3월까지는 0.35미크론 제품을 병행 생산할 방침이다.

<심규호 기자>