NEC, 최첨단 반도체 라인에 3년간 4천억엔 투입

일본 NEC가 0.25미크론 선폭의 최첨단 반도체 라인을 국내외에 갖추기 위해 앞으로 3년간 4천억엔을 투입한다.

「日本經濟新聞」에 따르면 NEC는 반도체 생산라인 첨단화를 위해 이같이 결정하고 우선 올해안에 1백50억엔을 투입, NEC히로시마에 0.25미크론 라인을 건설하는 한편 NEC규슈, 英 스코틀랜드, 美 로즈빌 등 세계 각지의 공장에 0.25미크론 라인을 건설한다고 밝혔다.

이 회사는 이같은 작업을 통해 첨단메모리와 ASIC 등 반도체를 양산할 계획이다.

NEC는 0.25미크론 라인 구축계획이 갖춰지는 3년 후에 8인치 웨이퍼 기준 월산 20만장의 생산능력을 갖추게 된다. 특히 히로시마 공장의 경우 오는 10월 정도에는 0.25미크론 라인이 1만8천장, 0.35미크론 라인이 5천장의 생산능력을 확보하게 된다.

NEC는 규슈와 영국공장도 기존라인의 장치를 대체해 0.25미크론화 할 계획이다. 또 3년내에 규슈와 미국공장에 신규 건물을 건축해 대규모 공장을 만들고 이 단계에서 8인치 다음 단계인 12인치 웨이퍼 생산에 들어갈 방침이다.

<박주용 기자>