반도체용 특수가스 생산 활기

반도체제조공정인 화학적 증착(CVD)공정에서 절연막층을 형성해 주는 핵심 재료인 특수가스의 국내생산이 올들어 크게 활기를 띠고 있다.

11일 관련업계에 따르면 선발업체인 한국산중소재가 30억원을 투자해 올들 어기존 실란가스를 대체하며 수요가 늘고 있는 CVD공정용 TEOS.TMB.TMP가스 의생산능력을 종전의 2배 수준인 연60톤으로 확충한데 이어 최근 KC테크와 대한특수가스도 각각 해외유력업체인 미ADCS와 쉬마허사 등과 손잡고 이들 특수가스생산에 속속 참여하고 있다.

지난 9월 미ADCS와 13억5천만달러를 들여 한국ADCS(주)를 합작설립한 KC테 크는 경기도 안성에 대지 1천6백평、 연산 30톤규모의 TEOS 및 TMB 등 특수 가스생산라인을 구축하고 내년부터 본격가동에 들어갈 계획이다.

대한특수가스도 최근 쉬마허사와 50대 50의 투자비율로 합작법인 슈마커코 리아를 설립、 시화공단내 대지 3천평에 연간 50톤의 생산능력을 갖춘 공장 을완공하고 12월부터 시생산에 나설 예정이다.

이들 가스의 국내생산 참여업체가 이처럼 늘고 있는 것은 반도체호황에 따 라특수가스의 수요가 빠르게 늘고 있는 데다 특히 수요업체인 소자업체들의 핵심재료국산화 의지와 시장선점효과를 노린 외국업체의 생산현지화전략이맞물려 한층 가속화되고 있는 것으로 분석된다.

이에 따라 국내특수가스의 생산은 내년에는 총 1백톤을 넘어서 수요(60톤 정도로 추정)를 훨씬 초과할 예상된다.

업계관계자들은 이와 관련、 "일시적으로는 공급과잉이 불가피할 것으로보이나 장기적으로는 업체간 품질경쟁을 유도해 아직 상당부분을 수입에 의존하고 있는 16MD램 이상의 고순도제품의 수입대체를 촉진하는 긍정적인 결과를 낳을 것"으로 기대하고 있다. <김경묵기자>