특허청, "의장출원 공개제" 도입 위한 의장법 개정안

내년부터 출원과정의 의장에 대한 권리를 보호하는 제도가 도입된다.

특허청은 출원중 공개된 의장을 다른 사람이 무단으로 모방하면 보상금청구권을 행사할 수 있도록 하는 "의장출원공개제"를 도입하기 위한 의장법 개정안을 확정했다고 1일 밝혔다.

현행 의장법은 의장을 출원한후 약 14개월인 등록때까지의 기간에는 의장 권을 인정하지 않아 출원중인 의장을 다른 사람이 모방해도 이를 규제할 수가없는 상황이다.

특허청은 올 정기국회에 의장출원공개제도입을 뼈대로 한 의장법 개정안을 상정하고 올해안으로 관련시행령과 시행규칙을 고쳐 내년부터 이 제도를 시행할 계획이라고 말했다.