일 소니, 1GD램제조 노광기술 개발

일본 소니사는 1GD램급 설계 패턴인 0.18미크론 미세가공 공정을 지원할 수있는 반도체 로광기술을 개발했다.

일본 "일간공업신문"의 최근 보도에 따르면 소니사가 개발한 이 기술은 초해 상도기술인 하프톤 위상마스크시프트법과 새로 개발한 사입출조명법을 조합 해 기존의 i선노광으로 0.35미크론、 불화크립톤(KrF)엑시머레이저로 0.18 미크론의 고밀도패턴의 안정노광을 가능케 했다.

소니는 이 기술을 i선노광의 적용영역을 확대하는 동시에 KrF엑시머 레이 저노광으로 1GD램의 양산화를 실현하는 최신 노광기술로 보고 있다.

이 기술은 차광판을 사용한 사입사조명등 기존의 초해상도기법으로는 해결하기 어려운 노광부족및 가패턴의 발생 등 기술적인 문제를 해결한 것으로 알려졌다. <주문정 기자>