히타치, 반도체설비투자 생산효율 현재 3배증대 계획

일본 히타치제작소는 앞으로 3년후에 반도체설비투자의 생산효율을 현재의3배로 끌어올릴 계획이다.

"일본경제신문"의 최근 보도에 따르면 히타치는 생산효율을 높이기 위해 약1백명으로 프로젝트팀을 구성해 생산방식및 제조설비의 재검토에 착수할 방침이다. 히타치는 최근 "고효율생산프로젝트"를 발족시켜 FA및 CIM(컴퓨터에 의한 통합생산시스템 의 확대, 장비의 표준화를 추진하는 한편 공장전체의 청정도를최고수준으로 유지하기 보다는 장소에 따라 청정도에 변화를 주어 에너지절약을 꾀하고 미세기술 향상에 의한 수율 개선을 목료로 하고 있다.

이 회사는 동프로젝트를 실시하기 전인 지난 92년 10월부터 2년간에 걸쳐 투자효율을 2배로 늘리는 "히트프로젝트"를 실시, 16MD램의 양산거점으로 최근가동한 나카공장의 건설비를 8백억엔에서 6백억엔으로 절감했다.

<주문정기자>