미IBM등 4사, X선리소그래피 개발협력

미국IBM.모토롤러.로랄.AT&T등 4개사는 1억달러를 공동투자해 X선 리소그래 피를 공동개발키로 합의, 이달중 합의서에 서명할 전망이다.

특히이번 4개업체의 협력에는 미국방부 고등연구계획국(ARPA)도 지원할 뜻을 밝히고 있다.

이들4개사는 아직 이번 합의에 대해 구체적인 언급을 회피하고 있으나 X선 레지스트나 마스크의 개발에도 착수할 것으로 예상되고 있다. ARPA는 X선리 소그래피뿐만 아니라 마스크검사장치나 보수기기에 대해서도 자금을 지원해 나갈 방침이다.

미국에서는지금까지 광학식을 이용한 리소그래피기술의 연구가 진행되어 왔는데 ARPA는 이 광학식이 더이상 진전되지 않음에 따라 X선방식에 대한 투자를 적극화하는 움직임을 보이고 있다.

최근미국에서는 칩의 처리기술에 있어 비중이 점차 최종가공쪽으로 옮겨감에 따라 X선리소그래피에 대한 관심이 높아지고 있다.