기계연구원-엘오티베큠 삼성전자 반도체 공정에 플라즈마 전처리장치 100대 공급

출연연구기관이 중소기업과 공동개발한 첨단기술이 삼성전자 반도체 생산라인에 적용됐다.

한국기계연구원(원장 임용택) 플라즈마연구실 송영훈 박사팀은 플라즈마 전처리장치가 삼성전자 반도체 생산 라인에 현재까지 100대 이상 설치됐다고 21일 밝혔다.

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한국기계연구원 플라즈마연구실 송영훈 박사(오른쪽)와 허민 박사가 플라즈마 전처리장치를 점검하고 있다.

이 기술은 기계연과 엘오티베큠(대표 오흥식)이 ‘반도체·디스플레이 분야 진공펌프 수명연장을 위한 저압 플라즈마 장비개발사업’의 일환으로 공동 개발했다.

이는 반도체 웨이퍼 생산 공정에서 나오는 지구온난화가스로 불리는 과불화 화합물(PFCs)을 처리하는 첨단 장비다.

지난 2년 간 양산공정에 적용한 결과 2차오염 물질 발생이 없는 걸 확인했다. 또 배기가스를 처리하는 진공펌프 수명을 획기적으로 늘릴 수 있다는 것도 확인했다. 운전비용은 이 때문에 기존공정 대비 10분의 1로 줄일 수 있다는 것이 연구진의 설명이다

기존에는 일부 반도체 공정라인에서 공정부산물이 축적되면서 진공펌프가 고장 나 한 달 전후에 한 번씩 진공펌프 교체 및 생산 중단이라는 불편과 비용 상승이 초래됐다.

노명근 엘오티베큠 기술연구소장은 “삼성전자 생산라인에 진공펌프 8000대가량을 공급했고, 삼성전자 진공펌프 총물량은 4만~5만대로 추산된다”며 “올해 말까지 플라즈마 전처리장치를 100대 추가 공급할 계획”이라고 말했다.

노 소장은 또 “삼성전자는 이 진공펌프를 생산성과 효율성에 따라 플라즈마 전처리장치로 교체 중”이라고 덧붙였다.

연구책임자인 송영훈 기계연구원 박사는 “이 기술의 실용화 요인은 출연연 원천기술 개발과 중소기업 제품 개발, 수요자인 대기업과의 공조를 꼽을 수 있다”고 말했다.


대전=박희범기자 hbpark@etnews.com

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