히타치, 미 댈러스에 LTE 연구센터 설립

히타치제작소가 차세대 이동통신 기술 개발을 위해 미국 텍사스주 댈러스에 롱텀에볼루션(LTE) 연구개발센터를 신설했다고 일본의 일간공업신문이 3일 보도했다.

일본 이동통신 서비스 회사 KDDI의 시스템 공급자로 선정된 히타치제작소는 차세대 네트워크 기술 개발을 가속화하기 목적으로, 파산보호 중인 캐나다의 노텔네트웍스로부터 최근 관련 특허도 취득했다.

댈러스 연구개발센터는 히타치제작소가 지난 7월 흡수합병한 히타치커뮤니케이션테크놀로지의 미국 법인을 근간으로 설립됐으며, 일본에서 파견한 인력과 노텔네트웍스로부터 영입한 기술인력 등을 합쳐 50여명의 연구진을 갖췄다. 초기에는 KDDI의 LTE 서비스를 대비한 장비개발 업무를 담당하지만 향후에는 미국 등 LTE 서비스 준비하는 통신선진국들의 프로젝트 수주 등으로 사업범위를 넓혀갈 계획이다.

최정훈기자 jhchoi@etnews.co.kr