동진쎄미켐, 포토레지스트 관련 특허

　동진쎄미켐(대표 이부섭 http://www.dongjin.com)은 포토레지스트 관련 특허를 받았다고 30일 밝혔다.

이 특허는 ‘감광성 수지 조성물(Photosensitive Resin Composition for Photoresist)’로 포토레지스트에 사용되는 감광성 수지 조성물 제조 기술을 내용으로 한다. 동진쎄미켐은 “이 특허 기술을 이용해 만든 감광성 수지가 투명성, 현상성, 잔막율, 내약품성, 내열성 등이 뛰어나다”며 “특히 층간 절연막으로써 패턴 형성이 쉽고 두꺼운 막에서도 투과율이 우수해 LCD 제조공정의 층간 절연막으로 사용하기에 효과적”이라고 설명했다. 한세희기자@전자신문, hahn@