차세대 노광 기술 개발 국내 기반 마련

　 차세대 반도체 공정 기술로 주목받는 극자외선 노광기술 연구에 가속도가 붙을 전망이다.

극자외선 리소그라피(EUVL) 차세대신기술개발사업단(총괄책임자 안진호)은 포스텍 포항가속기연구소 내에 극자외선 노광기술 공동 연구 및 평가를 위한 극자외선추출장치(빔라인)를 구축하고 2일 준공식을 갖는다.

이 설비는 삼성전자·동진쎄미켐이 한양대학교와 협약을 맺고 포스텍 방사광가속기연구소의 광원을 이용한 극자외선 분석설비를 공동 건설한 것으로 13.5㎚ 파장의 광원을 추출할 수 있는 빔라인과 소형 노광 장비 및 감광제 평가설비를 갖췄다.

극자외선 노광 기술은 수백 나노미터 파장의 기존 불화아르곤(ArF)이나 불화크립톤(KrF) 대신 13.5㎚ 파장의 극자외선을 적용, 기존 기술의 한계를 뛰어넘는 회로선폭 32㎚ 이하의 나노 반도체 생산을 가능케 하는 차세대 핵심기술이다. 2012년경 상용화될 것으로 전망된다.

이 시설에선 국내에서 유일하게 극자외선을 이용한 실험이 가능, 자체 개발 중인 핵심 부품 및 재료의 효율적인 성능 평가를 할 수 있게 됐다. 또 향후 포항 나노기술집적센터 및 포항가속기연구소와의 협력을 통해 극자외선 현미경과 광학상수 측정장치 등 평가 설비를 추가 보강, 차세대 반도체 소자의 연구개발을 지원하는 중심 역할을 할 것으로 기대된다.

한양대학교 안진호 교수는 “국내 반도체 기업 및 학계가 차세대 노광 기술 개발의 결과물을 실질적으로 평가할 수 있는 연구 기반을 확보하게 돼 그간 해외 기술에 의존하던 반도체 핵심 노광 기술의 연구에 탄력이 붙을 것”이라고 말했다.

또 극미세 나노 반도체 생산을 위한 핵심 기술 확보뿐 아니라 극미세 패턴이 필요한 나노·바이오 분야에도 활용돼 융합 기술 분야의 시너지가 기대된다. 이 설비 운영시간의 50%는 관심있는 모든 연구자들에게 배정돼 국내 관련 기술의 저변확대 및 국제협력에도 기여할 전망이다.

이 설비는 산업자원부가 지원하고 나노산업기술연구조합이 총괄 주관하는 ‘나노급 반도체용 극자외성 리소그라피 핵심기술개발’ 사업의 일환이다.

한세희기자@전자신문, hahn@