65nm 이하 극미세 BT·NT 활용 기대
사진; 포항공대가속기 연구소의 선형가속기. 이 연구소는 산자부와 향후 3년간 64나노미터 이하 차세대 노광 빔라인을 설치하게 된다.
65나노미터 이하 차세대 노광기술을 국내 기술로 개발, 상용화할 수 있는 길이 열렸다.
나노산업기술연구조합(이사장 이희국 LG전자 사장)과 포항공대 가속기연구소(소장 백성기)는 3일 포항공대에서 ‘극자외선 노광 빔라인 건설 및 운영’ 협약식을 가졌다.
포항공대 가속기연구소는 이번 협약으로 향후 3년간 산자부와 한양대로부터 5억7000만원을 투자받아 극자외선 노광기술용 마스크 및 레지스트 개발·평가를 위해 ‘빔라인(beamline)’과 ‘노광평가설비(Exposure tool)’를 갖추게 된다.
삼성전자와 동진쎄미켐 그리고 한양대, 서울대, 포항공대 등 5개 대학 컨소시엄은 매년 약 33억원을 투자하는 ‘나노급 반도체용 극자외선 노광 핵심요소기술 개발’에 이 설비를 활용할 계획이다.
이 평가설비는 2008년경부터 상용화가 기대되는 파장 13나노미터(nm)급 극자외선 기술을 이용, 웨이퍼 회로설계 원판(포토마스크)과 웨이퍼 도포 감광물질(포토레지스트) 개발 등에 쓰일 예정이다. 또 극자외선 빔라인은 미국, 일본, 유럽 등 반도체 선진 국가에서만 보유한 첨단 설비로 설비가 완성되면 반도체 소자 및 장비재료 개발뿐만 아니라 65nm 이하 극미세 NT와 BT 분야에서의 활용도 기대된다.
백성기 소장은 “이 가속기를 이용하면 65nm 이하의 크기 제어가 가능, 64기가비트 이상 초고집적 메모리 및 10GHz 이상 초고속 마이크로프로세서의 양산 기반을 마련해 반도체 강국으로서의 입지를 확고히 할 수 있는 기반기술을 확보하게 됐다”며 “일반 연구자에게도 공개해 관련분야에서 효율적인 활용을 지원할 계획”이라고 말했다.
<손재권기자 gjack@etnews.co.kr>
