후지쯔, 아이즈와카마쓰시 새 LSI공장 착공 연기

　일본 후지쯔가 후쿠시마현 아이즈와카마쓰시에 계획하고 있는 새 공장의 착공시기를 또다시 연기했다고 「일경산업신문」이 보도했다.

　후지쯔는 지난 97년 7월 낙후된 기존 아이즈공장을 폐쇄하고 아이즈와카마쓰시 신공업단지에 1500억엔을 투자해 최첨단 LSI 전공정공장을 98년 상반기 중에 착공할 계획이라고 발표했다.

　그러나 지난해 1월 반도체 불황의 영향으로 착공시기를 하반기로 연기한 데 이어 이번에 다시 무기한 연기에 들어간 것이다.

　후지쯔는 이미 지난해 기존 아이즈공장을 폐쇄한 상태이기 때문에 새 공장의 건설 계획을 전면 백지화하지는 않을 전망이다.

　한편 후지쯔는 새 공장 설립계획 과정에서 미리 책정한 공장부지 일부에 후공정 시험생산공장을 건설한다. 시험공장 건설에는 50억엔을 투자할 계획으로 올해 안에 착공해 내년 하반기부터 조업을 시작할 예정이다.

<심규호기자 khsim@etnews.co.kr>