日 NEC, 美 로즈빌공장 0.25미크론 설비 도입

일본 NEC가 미 로즈빌 반도체공장에 0.25미크론 미세가공설비를 도입한다.

「日本經濟新聞」에 따르면 NEC는 최근 캘리포니아주에 있는 로직IC 생산거점인 로즈빌공장에 약 1억2천만달러를 투자, 올해안에 이 공장 생산라인을 모두 0.25미크론급으로 전환할 계획이라고 발표했다.

NEC는 공사가 완료되는 내년 초부터 이 공장을 통해 통신기기 및 자동차용 주문형반도체(ASIC)를 6인치웨이퍼 환산 월 1만5천장규모로 생산해 나갈 계획이다.

NEC는 올해 초 향후 3년간 총 4천억엔을 투자해 전세계 생산거점에 최첨단 생산설비를 도입한다는 계획을 발표한 바 있는데, 이번 로즈빌공장의 미세가공설비 도입도 그 일환이다.

현재 NEC가 보유하고 있는 0.25미크론급 첨단 반도체공장은 NEC히로시마, NEC규슈, 영국 스코틀랜드 등 3개 공장으로, 이번 로즈빌공장이 4번째다.

<심규호 기자>