포토레지스트 국산화 활기

반도체 제조과정의 노광공정에 사용되는 핵심 재료인 포토레지스트의 국내 개발 및 생산이 활기를 띠고 있다.

23일 관련업계에 따르면 현대전자 등 국내 소자업체와 동우반도체약품, 동진화성, 훽스트산업 등 반도체용 약품 전문업체는 물론 미원상사, 일양약품 등의 일반 화학 전문업체들이 최근 i라인용 또는 DUV용 포토레지스트의 개발 및 생산에 본격적으로 나섬에 따라 이 재료의 상용화 여부에 관심이 모아지고 있다.

포토레지스트는 설계된 반도체 회로를 웨이퍼상에 전사시킬 때 빛의 조사 여부에 따라 달리 감응함으로써 미세 회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광공정용 핵심 재료로, 이중 g라인용과 i라인용은 각각 4MD램 및 16MD램 양산에 사용되며 차세대인 DUV용 포토레지스트는 64MD램 이상 반도체 제조에 사용된다.

하지만 그동안 국내업체들이 생산하는 제품은 대부분 g라인용 위주여서 현재 시장주도 제품인 i라인용 및 최근 수요가 급증하고 있는 DUV용 포토레지스트는 거의 전량 일본 스미토모 및 TOK 등 외산 제품에 의존하고 있는 실정이다. 이에 따라 국내업체들의 첨단 포토레지스트 개발이 실제 상용화로 이어질 경우 현재 15% 수준인 포토레지스트의 국산 사용률이 25%를 넘을 것으로 예상돼 올해에만도 2천억원으로 추산되는 국내 시장에서 5백억원 이상의 수입대체 효과를 거둘 수 있을 것으로 기대된다.

지난해 이후 첨단 포토레지스트 개발을 추진해온 현대전자는 DUV용 제품 가운데서도 향후 4GD램 반도체 제조에까지 대응 가능한 차세대 아르곤 플로라이드(ArF) 감광제를 개발하고 이의 활용방안을 현재 모색중이다.

올해 일본 스미토모와 합작으로 이 시장에 신규 진출한 동우반도체약품은 g라인 및 i라인용 포토레지스트의 본격적인 생산을 위해 이미 공장 건설에 착수했으며 향후 3년간 총 1백억원을 투자, 0.18미크론 이하의 패턴 형성이 가능한 DUV용 포토레지스트의 개발도 병행 추진키로 했다.

그동안 에폭시몰딩컴파운드(EMC)와 포토레지스트 등 화학약품을 생산해온 동진화성도 회로선폭 0.45미크론까지 대응 가능한 i라인용 포토레지스트의 개발을 최근 완료하고 이 제품의 본격적인 양산을 위해 총 2백50억원을 투자, 월 5만갤런() 생산능력의 대규모 공장을 현재 건설중이다. 이를 통해 이 회사는 포토레지스트 분야에서만 올해 1백50억원 이상의 매출을 올릴 계획이며 차세대 DUV용 제품 개발도 이미 진행중인 것으로 알려졌다.

훽스트산업 또한 독일 본사가 개발한 KrF 엑시머 레이저용 DUV 제품을 국내에 공급하는 한편 현재 건설중인 안성공장이 완공되는 오는 98년부터 이 제품의 자체 생산 및 개발도 적극 추진할 방침이다.

이밖에 무기화학제품 전문업체인 미원상사가 반도체용 감광제 개발을 추진중이며, 일반 약품업체인 일양약품도 이미 포토레지스트의 1단계 개발을 마치고 최근 품질시험에 들어간 것으로 알려져 국내 포토레지스트의 개발 및 생산은 더욱 활성화될 전망이다.

업계의 한 관계자는 『포토레지스트는, 반도체는 물론 LCD 제조에까지 사용되는 핵심 재료로 향후 20% 이상의 고성장이 기대되는 첨단 분야이며 특히 각종 차세대 소자 및 액정장치의 선도개발을 위해서라도 반드시 국산화해야 할 품목』이라고 강조했다.

<주상돈 기자>