日NTT, 0.07미크론 홈 형성 성공

일본전신전화(NTT)가 엑스(X)선을 사용해 반도체기판상에 선폭 0.07미크론의 홈을 제작하는 데 성공했다고 「日本經濟新聞」이 최근 보도했다.

이는 2010년경 양산이 전망되는 64G비트급 메모리의 제조에 필요한 미세가공기술에 해당된다.

이에 따르면 NTT LSI연구소는 엑스선을 발생시키는 싱크로트론방사광(SR)장치를 사용,미세 회로형성을 실험한 결과 선폭 0.07미크론까지는 회로로 할수 있는 만큼의 깨끗한 홈을 형성할 수 있고 0.06미크론에서는 형태가 뭉그러지는 것을 확인했다.

이번 성공은 엑스선에 의한 미세가공으로서는 세계 최고의 성과로 이와 관련 NTT의 기술진은 현재 미래의 회로제작기술로 레이저나 전자선등도 후보에올라 있지만 엑스선이 가장 유망한 것으로 보고 있다고 이 신문은 덧붙였다.

반도체제조에서는 빛을 사용해 회로패턴을 기판에 형성하는 노광기술이 기본으로 돼 있다. 현행의 빛(자외선)에 의한 노광은 이론적으로 선폭 0.2미크론까지만 가능, 차세대기술개발이 요구되고 있다.

차세대후보의 하나인 엑스선도 지금까지는 선폭 0.12미크론전후가 한계로지적돼 왔는데 NTT의 성공은 이를 뒤집는 것으로 엑스선기술의 우위성을 입증하는 성과로 그 의미가 크다.

한편 홈의 제작에 사용한 SR장치는 의료용등 종래의 엑스선에 비해 강력한엑스선을 낼 수 있다. 이는 가격이 비싸기 때문에 NTT, 미쓰비시電機등 몇개기업만 보유하고 있다.

<신기성 기자>