한국듀폰, 내년부터 PSM 국내 생산

그간 전량 외국에 의뢰해 제작해온 차세대 반도체용 "페이스 쉬프트 마스크 PSM 가 내년부터 국내에서 본격 생산된다.

한국듀폰은 최근들어 본격화되고 있는 64 및 2백56MD램 등 차세대 메모리 와고성능 ASIC 등 서브하프 미크론급 반도체의 개발 및 상품화 지원을 위해PSM을 내년초부터 월 1백장 규모로 생산할 계획이라고 12일 밝혔다.

이를 위해 듀폰은 최근 양산설비구축을 마쳤으며 내년에 총 1천7백만달러 를집중 투자、 첨단 리소그래피 장비 "MEBES 4500" 및 레이저 장비 등을 도입하고 고집적 반도체 개발 및 생산에 필수적인 PSM생산 설비를 보강해나갈방침이다. PSM의 소요량은 64MD램 기준으로 전체 소요되는 마스크 20여매 가운데 3~4 매에 불과하지만 초미세 회로선폭 디자인의 최대 문제점인 빛의 간섭으로 인 한해상도 저하를 해결、 고집적.파인패턴화를 가능케한 첨단 포토마스크로서세계적으로 고집적제품을 중심으로 수요가 본격화되고 있으며 국내에서도 이미 16MD램 3세대 제품부터 미.일산 제품을 수입 사용해오고 있다.

한국듀폰측은 "차세대 제품의 양산에 편승해 수요가 폭발적으로 늘 것이예상되는 PSM은 그간 재료 및 제조공법의 특허문제 등 까다로운 조건때문에 국산화에 어려움이 많아 전량 수입에 의존해왔다"고 설명하고 이를 국내에서 본격 생산함에 따라 소자업체들의 차세대 제품 디자인 경쟁력 제고는 물론, 내년에만도 5백만달러 이상의 수입대체가 가능할 것으로 기대했다.

<김경묵 기자>