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    2015년 주요 반도체 업체의 미세공정 적용 추정

    카테고리 : 정보통신 지면 : 22면 개제일자 : 2015.02.26 관련기사 : 올해 반도체 미세공정 경쟁...D램은 20나노, 낸드플래시는 3D 싸움

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  • 올해 반도체 미세공정 경쟁...D램은 20나노, 낸드플래시는 3D 싸움

    주요 반도체 업체의 올해 미세공정 경쟁이 D램은 20나노에서, 낸드플래시는 3차원(D) 적층 쪽에서 격화될 전망이다.

    25일 업계에 따르면 주요 반도체 업체들은 미세공정 고도화를 통한 경쟁력 강화에 큰 공을 들이고 있다. 앞선 미세공정 확보는 곧 매출과 영업이익 증가라는 등식이 성립하기 때문이다.

    D램에서는 올해 20나노 경쟁이 본격화된다. 삼성전자는 지난해 3월 관련 기술을 도입했고 올해부터 관련 기술 확대에 집중하고 있다. 올해 연말까지는 D램의 50% 이상을 20나노 공정....

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