특허청, 2011년도 차세대영재기업인 선발

특허청은 한국과학기술원(KAIST) 및 포스텍(포항공대)과 공동으로 독창적인 지식재산을 기반으로 미래의 신성장 산업 창출을 주도할 `2011년도 지식재산기반 차세대 영재기업인`을 선발한다고 5일 밝혔다.

KAIST와 포스텍은 현재 중학교 1학년부터 고등학교 1학년까지의 재학생 중 창의성이 뛰어난 소수 정예의 인재를 각각 75명씩 선정, 이들이 세계적인 기업가로 성장하는 데 필요한 교육과정(정규 2년, 선택 1~3년)을 제공한다.

선발과정은 2단계로 진행된다. KAIST와 포스텍의 영재기업인교육원은 1단계 서류전형에서 최종 선발인원의 2배수인 150여명을 각각 선발하고, 2단계에서 캠프수행평가 · 구술면접 또는 심층면접을 통해 최종 합격자를 선발한다.

차세대 영재기업인으로 선발된 학생들은 두 대학의 교육원에서 제공하는 학기 중 온오프라인 교육과 방학 중 집합교육을 받게 된다. 또 학생 각자의 특성에 맞춘 일대일 맞춤형 성장 지원에 따른 이력관리, 심리 · 진로 상담 등 교육과 연계된 개별 컨설팅도 이뤄진다.

이번 차세대 영재기업인 신청접수는 오는 11일부터 24일까지 두 대학의 교육원별로 진행되며, 최종 합격자는 12월 20일 차세대 영재기업인 홈페이지(www.ip-gifted.org)를 통해 발표한다.

대전=신선미기자 smshin@etnews.co.kr