도시바, 2년뒤 30나노 플래시메모리 양산

　일본 도시바가 삼성전자를 추격하기 위해 2009년 말 30나노 플래시메모리 양산에 나선다.

　8일 니혼게이자이신문에 따르면 도시바는 내년 3월부터 미에현 요카이치시 신 공장에서 43나노 공정으로 플래시메모리를 생산하고 12월께는 43나노 라인을 전면 가동할 계획이다. 이어 회계연도 기준 2009년 중순, 우리나라 기준으로 약 12월부터 30나노 공정을 도입하기로 했다.

　보도에 따르면 세계 2위 반도체 업체인 도시바는 현재 56나노 공정을, 삼성전자는 51나노 공정을 채택하고 있다. 양사의 시장 점유율은 지난 2분기 삼성이 45.9%, 도시바가 27.5%다. 격차가 크지만 도시바는 신공정 채택으로 추격을 모색한다는 전략이다.

　현재의 56나노에서 30나노 공정으로 전환하면 생산 비용을 절반 수준으로 낮춰 가격 경쟁력을 보다 강화할 수 있을 것으로 회사 측은 기대하고 있다.

　도시바는 30나노 신공정을 위한 투자액은 현재 공개하지 않았다. 하지만 투자 규모는 1조엔에 이를 것으로 추정되고 있다.

　윤건일기자@전자신문, benyun@