나노임프린트 리소그래피 기술 상용화 활발

　리소그래피 비용을 획기적으로 줄여줄 나노임프린트 리소그래피 기술의 상용화가 활발히 진행되고 있다.

　EE타임스는 몰큘러임프린츠(MII), 나노엑스, 오브듀캣 등이 이미 임프린트 리소그래피 장비를 출시했거나 출시를 눈앞에 두고 있다고 보도했다.

　프린스턴대의 후원을 받고 있는 나노엑스는 최근 30만∼70만달러 가격대의 나노임프린트 리소그래피 장비 판매에 들어갔다. 이 회사의 창업자겸 프린스턴대 교수인 스티븐 초는 한 고객사가 자사의 시스템을 광학기기 생산에 사용하고 있다고 밝혔다. 또 프린스턴대의 한 연구팀은 나노엑스의 시스템을 이용해 100㎚ 이하 공정의 ‘MOSFET’를 개발하고 있다.

　텍사스대의 분사회사인 MII도 내달 나노임프린트 개발툴인 ‘임프리오 100’을 200만달러의 가격에 출시할 예정이다. MII는 모토로라 템퍼 연구소와 탬플릿 개발을 위해 협력해왔으며 이에 따라 업계에서는 모토로라가 MII의 첫번째 고객이 될 것으로 점치고 있다. 그러나 이 회사의 CEO인 놈 슈메이커는 특정 고객에 대한 언급을 회피했다.

　또 주사전자마이크로스코프 제조업체인 오브듀캣도 곧 나노임프린트 장비를 내놓을 계획이다.

　임프린트 리소그래피는 일대일 근접 마스크를 통해 극자외선에 노출시키면 굳어지는 중합체를 이용해 탬플릿의 패턴을 만들어내는 기술로 값비싼 광학 시스템이나 상변환 마스커와 같은 강화 기술을 사용하지 않기 때문에 제조 비용을 낮춰주는 것이 특징이다.

　이에 따라 현재 세계 각국의 주요 반도체 업체들은 나노임프린트 기술 개발에 집중하고 있는 상황으로 미국의 경우 국방고등연구계획청(DARPA)이나 해군연구청(ONR) 등 정부 차원에서 적극적으로 지원하고 있으며 하버드대, 프린스턴 대 등 대학 차원의 연구도 활발히 이뤄지고 있다.

　또 유럽과 일본의 경우 연구 컨소시엄을 중심으로 나노임프린트 리소그래피 기술 개발에 막대한 자금을 쏟아붓고 있다.

　한편 지난 11∼13일까지 샌프랜시스코에서 열린 첫 관련 행사인 나노임프린트 및 나노프린트 테크놀로지 콘퍼런스에는 전세계에서 200명의 연구원들이 참여, 성황을 이뤘었다.

　<황도연기자 dyhwang@etnews.co.kr>