日, 차세대 반도체 연구개발 `후끈`

　NEC·히타치제작소 등 일본 반도체 관련 11개사의 반도체 제조기술 연구개발 합작사인 반도체첨단테크놀로지스(Selete·셀레트)가 약 280억엔을 들여 이바라키현 쓰쿠바시 등 세 곳에 차세대 반도체 연구·시험제작 라인을 설치한다고 일본경제신문이 보도했다.

　출자 기업들로부터 수탁을 해 반도체 미세가공에 필요한 노광·배선 기술 등을 연구하는 이 회사는 3개 거점에서 연구를 병행하게 됨으로써 개발 속도가 한층 빨라질 전망이다.

　셀레트는 쓰쿠바시에 2개 라인을, 사이타마현 수기도마치에 1개 라인을 설치키로 했다. 쓰쿠바에서는 산업기술종합연구소가 내년 4월 개설하는 클린룸과 NEC연구소를 빌려, 수기도에서는 돗판인쇄연구소 일부를 임대해 설비를 구축할 예정이다. 모두 직경 300㎜의 차세대 웨이퍼에 대응하는 최첨단 설비다.

　산업기술연구소의 클린룸에서는 전자빔을 사용한 차세대 노광장치 등을, NEC연구소에서는 트랜지스터를 형성하는 게이트 절연막의 신재료를, 수기도에선 회로원판(포토마스크)을 집중적으로 연구할 계획이다.

　셀레트는 반도체 제조업체 13개사가 참여하는 차세대 반도체기술 개발 프로젝트 ‘아수카’의 연구 작업을 수탁, 2001년부터 5개년 계획으로 합계 700억엔을 투입해 선폭 0.07∼0.01㎛의 미세가공에 필요한 요소기술 개발을 추진하고 있다. 당초 계획에서는 산업기술연구소의 클린룸 한 곳에서만 연구를 추진할 예정이었으나 효율 제고와 연구 성과의 조기 실용화를 위해 연구 및 시험 거점을 세 곳으로 늘리기로 했다.

　아수카 프로젝트에는 후지쯔·히타치제작소·마쓰시타전기산업·미쓰비시전기·NEC·오키전기공업·롬·산요전기·세이크엡슨·샤프·소니·도시바 등 일본의 12개사와 외국 업체로 유일하게 삼성전자가 참여하고 있다.

　<신기성기자 ksshin@etnews.co.kr>