日 NEC, SMIF 기술 도입 추진

일본 NEC가 현재 건설중인 국내외 반도체생산라인에 부분 크린룸화 기술(SMIF) 도입을 추진하고 있다.

「日本經濟新聞」에 따르면 NEC는 최근 초기 출자비 5백억엔을 투자해 건설하고 있는 반도체연구개발거점 사가미하라사업소에 SMIF를 일부 시험 도입하기로 결정한데 이어, 내년 중반 가동을 목표로 하고 있는 캘리포니아주 로즈빌공장의 새 라인에도 SMIF를 도입하는 방안을 검토 중에 있다.

NEC는 현재 SMIF를 사업화하고 있는 반도체장비업체 담당자들과 교섭을 추진 중에 있으며 로즈빌공장 새 라인에서 사업성이 입증될 경우 자사 국내외 반도체거점에 이 기술의 도입을 본격화할 방침이다.

지금까지 일반화돼 있는 크린룸은 종업원이 활동하는 공간을 포함하기 때문에 먼지가 발생할 가능성이 높을 뿐 아니라 공기를 정화해야 하는 공간이 넓어 전력 사용량도 매우 높았다.

그러나 SMIF기술은 반도체 웨이퍼가 있는 공간만을 크린룸화하기 때문에 먼지가 발생할 가능성이 적어 결과적으로 수익성이 향상될 것으로 전망된다.

SMIF와 관련해서는 현재 후지쯔가 일부 공장에 도입을 결정해 놓고 있으며 그 밖의 주요 업체들도 높은 관심을 보이고 있다.

<심규호 기자>