美벨연구소, 선폭 0.08미크론 기술개발

미국 루슨트 테크놀로지즈 산하의 벨연구소가 웨이퍼상에서 0.08미크론의초미세회로선폭을 구현할 수 있는 새로운 전자 빔 시스템을 개발했다고 영국로이터 통신이 최근 보도했다.

이에 따르면 현재 미세회로기술은 대부분 자외선을 이용,선폭 0.35미크론까지 프린트할 수 있고 최근 0.18미크론을 실현한 단계다.

또 향상된 광선기술을 이용해 회로선폭을 줄인다 해도 일반적으로 0.13미크론까지가 한계로 받아 들여지고 있다.

그러나 벨연구소는 「스칼펠」이라는 기술로 0.08미크론까지 선폭을 줄임으로써 마이크로칩 크기의 한계를 한단계 뛰어넘은 것으로 평가되고 있다.

벨연구소는 내년말까지 「스칼펠」기술을 다른 응용분야에도 이용토록 할계획이며 오는 2005년까지는 이 기술이 상용화될 것으로 보인다고 밝혔다. 이와 관련,이 연구소는 현재 다른 반도체장비업체들과 이 기술의 라이선스에관한 협상을 진행중이라고 전했다.

<구현지 기자>