삼성전자가 최첨단 51나노(㎚) 미세공정을 적용한 낸드플래시의 생산 비중을 현재 2%에서 연말까지 30% 이상으로 확대한다. 이와 함께 D램도 80나노 이하 미세 공정을 적용한 제품의 생산 비중을 현재 40% 수준에서 연말까지 80%로 끌어올린다.

　51나노 공정에서 낸드플래시를 생산하면 60나노대에서 생산할 때보다 생산원가를 최대 40%까지 줄일 수 있다.

　삼성전자(대표 윤종용)는 지금까지 60나노대 공정에서 주로 생산해오던 낸드플래시를 현존 최미세공정인 51나노로 대폭 전환,....