최근 반도체 업체들이 연이어 1분기 깜짝 실적을 기록하며 상승세를 이어가고 있는 가운데 반도체 제조에 사용되는 고순도 가스 부품업체들도 수혜가 예상되고 있다.
2001년 설립된 아스플로(대표 강두홍)는 일본으로부터 전량 수입에 의존하던 반도체 공정 가스 공급에 사용되는 고청정 튜브를 국내 최초로 국산화를 한 회사다.
아스플로의 핵심기술은 극청정 표면처리 기술이다. 반도체 제조 공정에 쓰이는 가스는 매우 민감하고 종류가 다양하여 부식성이 매우 강하다. 이러한 특성으로 가스가 이동되는 부품들에 의해 반도체 수율까지 영향을 미치기 때문에 특수표면 처리를 통해 부품이 부식되지 않고 가스가 공정 라인까지 갈 수 있도록 극청정·고순도가 필요하다.
반도체 시장은 안정적이면서 보수적인 대표적인 시장이다. 그래서 제조공정에 쓰이는 부품들은 미국이나 일본의 제품을 선호하고 부품사 변경에도 매우 보수적이었다.
아스플로는 이런 시장에서 국내의 원천기술이 없어 수입에 전량 의존하던 반도체 배관 생상라인에 사용되는 극청정 배관제품의 국산화를 이루었고, 삼성전자·SK하이닉스의 1차 협력사로 20년 넘게 협력관계를 유지하고 있으며 어플라이드머티리얼즈, 램리서치 등 200여 개 업체와 거래하고 있는 것으로 알려졌다.
강두홍 대표는 “반도체 제조에 사용되는 가스 종류가 40여종의 이르고 99.99999% 이상의 순도를 유지해야될 만큼 대단히 민감하고 부식성이 강한 것도 있는데, 이런 고순도 가스를 반도체 생상공정에 사용되는 스테인리스스틸 튜브, 벨브, 레귤레이터, 필터 등의 각종 부품을 공급하고 있다”고 말했다.
현재 아스플로는 핵심기술인 극청정 표면처리 기술을 바탕으로 튜브 소재 국산화를 성공, 정밀가공과 특수 용접 기술을 확보하면서 밸브와 레귤레이터 등의 반도체 공정가스용 부품 생산에 필요한 일괄 생산 공정을 보유하고 있는 것으로 알려졌다. 또한 금속분말 응용기술을 토대로 반도체 공정용 고성능 금속필터 개발도 성공하여, 반도체 공정가스 공급과 관련된 모든 종류의 제품과 기술을 확보 하고 있는 것이 회사의 특징이다.
강두홍 대표는 “올 3분기 美법인을 설립하고 마이크론, 인텔, 텍사스인스트루먼트와 거래를 성사시키고, 미국에서 100억원 이상의 매출을 노릴 것”이라고 전했다. 이어 “내년 3분기에는 연 3000억 규모의 중국 공장도 완공되어 가격 경쟁력에서도 우위를 점할 수 있을 것”이라고 전했다.
