지식재산권 협력을 위해 한·중·일이 뭉친다.
특허청은 7일부터 9일까지 일본 오다와라에서 특허 협력 강화를 위한 회담을 개최한다. 한·일, 한·중, 한·중·일로 이어지는 각국 특허청장 연쇄 회담이다.
먼저 7일에는 `한·일 특허청장회담`이 열린다. 이 자리에서는 △공동 선행 기술조사를 위한 심사관 교류 협력 강화 △특허 데이터 교환·대민보급 확대 등을 논의할 예정이다. 또, `지리적 표시·지역 단체표장 목록 교환 대상 확대` 협력각서를 체결한다. 교환된 목록은 양국 지리적 표시 보호에 참고 자료로 활용된다.
8일 열리는 `한·중 특허청장회담`에서는 한·중 특허공동심사(CSP) 추진을 합의한다. 특허공동심사는 양국에 동일하게 출원된 특허를 다른 특허보다 먼저 심사하는 제도다. 제도 시행 후 양국 특허청은 선행기술 검색정보를 공유한다. 특허공동심사로 국제적인 심사결과 일관성이 높아지면 조기 특허 확보가 가능하다. 같은 날 오후 `한·중·일 특허청장회담`을 개최한다. 3국 특허청장은 특허, 디자인, 정보화 분야 협력 성과를 승인하고 내년 협력 방향을 논의한다. 협력 효율을 높이기 위해 기존 협력체계 정비 계획도 수립한다.
9일에는 사용자 심포지엄이 열린다. `지재권의 행정·사법적 보호`를 주제로 3국 판사·심판관이 패널로 참석해 지재권 보호 최신 동향을 발표한다.
최동규 특허청장은 “전 세계 특허출원 57%, PCT 국제출원 41%가 한·중·일 3국에서 나온다”며 “해외에서 국내 기업이 편리하게 지재권을 획득하고 보호받도록 국제 협력을 강화하겠다”고 밝혔다.
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나유권 IP노믹스 기자 ykna@etnews.com
