국내 벤처기업이 반도체 CVD 공정 과정에서 10㎚급 파티클 크기와 성분, 형상을 정확히 측정할 수 있는 장비를 개발했다.
코셈(대표 이준희)은 기존 레이저보다 파티클 측정 정밀도가 크게 향상된 10㎚급 ‘CVD 공정 파티클 모니터링 장비’를 개발했다고 밝혔다.
현재 반도체 CVD 공정은 정상적으로 잘 진행되고 있는지 확인하기 위해 간접 방식과 직접 방식으로 나눠 측정해왔다.
체임버에 실험용 웨이퍼를 넣어 육안으로 확인하는 간접 방식은 이물질이 발생하더라도 공정이 끝난 후에야 전자현미경을 사용해 원인을 파악해야 했으며 실시간 파티클 측정은 불가능했다.
레이저를 이용한 직접 방식은 입자 크기, 특성 등 파티클을 측정할 수 있다는 점에서 간접방식보다 진일보했으나 빛 특성을 이용한 측정 방식 한계로 100㎚ 이하 파티클은 측정할 수 없었다.
코셈은 이러한 점을 극복하기 위해 CVD 공정 중 발생되는 입자를 하전시켜 전기장 내 운동을 정확히 측정하는 데 성공했다.
파티클 크기도 레이저 방식보다 훨씬 정밀한 10㎚급까지 측정할 수 있고, 성분과 형상까지도 실시간으로 정확하게 측정이 가능하다.
장비를 사용하면 파티클 모니터링과 분석이 동시에 이뤄져 반도체 공정을 효율적으로 빠르게 안정화할 수 있다.
장비는 반도체 CVD공정 등 다양한 진공 공정과 생산 수율 관리가 중요한 디스플레이 공정 등 활용 폭이 넓다.
현재 세계적으로 반도체 생산공정 입자 측정 장치 시장 규모는 4조5000억원, 디스플레이 분야 오염입자 측정장치 시장 규모는 1489억원 등으로 두 시장을 합치면 5조원에 육박한다.
코셈은 한국표준과학연구원, 나노종합기술원에서 제품 유용성을 검증한 후 시장에 본격 진출할 계획이다.
장비는 산업통상자원부 ‘소재부품기술개발사업(투자자연계형)’ 지원을 받아 개발됐다.
이준희 사장은 “과학 첨단 분석장비 전자현미경 기술을 이용해서 반도체 및 디스플레이 종주국에 걸맞은 연구분석 장비 회사로 거듭나겠다”고 말했다.
대전=신선미기자 smshin@etnews.com
