민·관이 힘을 합쳐 미래 반도체 원천 기술개발에 나선다. 반도체 소자·장비·소재 전분야에 걸쳐 차세대 반도체 시장을 선점하기 위해 정부와 민간이 각각 50%씩 총 250억원을 투자한다.
한국산업기술평가관리원(KEIT, 원장 이기섭)은 서울 양재동 엘타워에서 `미래 반도체소자 원천기술개발사업 발대식 및 사업발표회`를 열었다.
중·장기적으로 산업계가 활용할 수 있는 미래반도체소자와 관련된 핵심 요소기술을 개발하는 사업이다. 정부 지원금 50%, 국내외 반도체 소자·장비 기업이 50%씩 출자해 5년간 250억원을 지원한다. 민간에서는 삼성전자·SK하이닉스·ASML코리아·어플라이드머티리얼즈코리아·도쿄일렉트론코리아·램리서치코리아가 참여했다.
12개 세부과제는 III-V채널 또는 터널펫(Tunnel FET)을 이용한 CMOS 연장 기술, 차세대 메모리용 M램·R램·PC램 기술, 차세대 메모리용 기반 기술, 광연결이나 구리 대체 물질을 이용한 차세대 BEOL(Back end of line) 기술, 하이브리드 집적회로 기술, 차세대 원자층증착(ALD) 기술, 차세대 CMOS를 위한 에피택시(epitaxy) 기술, 극자외선(EUV) 마스크 오염 방지 및 제거 기술 등이다. 올해 공고를 내고 주관 기관을 선정한다. 국내외 32개 학교·연구기관의 250여명이 참여할 예정이다.
설명회에는 최태현 산업부 국장, 이기섭 KEIT 원장, 양준철 한국반도체산업협회(KSIA) 부회장, 연구수행자 등 150여명이 참석했다.
오은지기자 onz@etnews.com
