반도체·디스플레이 장비·소재 업체인 케이씨텍(대표 고석태·주재동)은 일본 히타치케미칼과 합의, 미국과 국내에서 진행한 CMP 슬러리 관련 특허 소송을 취하했다고 25일 밝혔다.
CMP 슬러리는 반도체 웨이퍼 표면을 평탄화하는 CMP 공정에 쓰이는 연마액이다. 앞서 히타치케미칼이 지난 2011년 11월 미국에서 관련 특허를 침해했다며 소송을 제기하자, 케이씨텍은 지난해 7월 국내에서 특허무효심판을 제기했다. 양사가 합의하고 소송을 취하함에 따라 모든 특허 분쟁은 종결됐다. 케이씨텍은 특허 분쟁에서 벗어나 CMP 슬러리 사업을 본격 강화할 계획이다.
오은지기자 onz@etnews.com
