박운익(KAIST 신소재공학과 박사과정)씨는 `블록공중합고분자 자기조립을 통해 형성된 고밀도 SiOx(Silicon Oxide) 저항 메모리 나노구조물` 논문으로 2등상을 받았다.
블록공중합고분자 자기조립 공정으로 그래핀과 금속전극 위에 형성된 SiOx는 그 자체로 저항메모리 특성을 갖는다. 이를 통해 블록공중합체 자기조립 거동을 섬세하게 제어하면서 잘 정렬된 SiOx 나노구조물을 형성할 수 있다. 20㎚이하 크기의 SiOx 나노닷과 10㎚ 이하 두께 박막은 매우 안정된 유니폴라(unipolar) 저항 메모리 특성을 보여 준다.
논문은 이같은 접근 방법을 통해 자기조립 블록공중합고분자 자체가 메모리 특성을 지녔다는 것을 발견한데 큰 의미가 있다. 값 비싼 리소그래피와 패턴전사 공정을 이용하지 않고도 고밀도 메모리를 구현할 수 있는 가능성을 제시했다.
윤성철 한국화학연구원 박사는 “본 논문은 불록공중합체의 자기조립 특성과 전극 표면처리기술을 이용해 유니폴라 스위칭 거동을 관찰했다”며 “향후 20㎚ 이하 나노 금속전극 기술과 조합해 초고밀도 비활성 메모리 소자를 구현하는 기반 기술이 될 수 있을 것으로 예상한다”고 추천 이유를 밝혔다.
수상해서 너무 기쁘다. 개인적으로 박사 과정을 마무리하는 시기다. 그동안 연구한 것 가운데 대표적인 성과물로 좋은 상을 받아 한국다우케미칼에 감사하다.
이 연구는 학위과정 동안 올바른 연구의 길로 이끌어주시고, 아낌없이 지원하고 배려해 준 정연식 교수님 지도에 의한 것이다. 교수님께 감사 말씀을 드린다. 함께 참여해 준 연구원들도 고맙다.
다우 전자재료 어워드가 많은 연구원들에게 큰 힘이 될 것으로 생각한다. 더 좋은 연구 결과로 보답하겠다.
이호준기자 newlevel@etnews.com
