포스텍, 방사광 이용 펜타센 분자막 나노패턴 개발

교육과학기술부와 포스텍 포항가속기연구소(PAL · 소장 이문호)는 황찬국 박사팀이 포항방사광가속기의 극자외선을 이용, `펜타센 나노패턴` 기술을 개발했다고 29일 밝혔다. 반도체의 실제적용 뿐만 아니라 각종 기기의 효율성을 대폭 증대시킬 것으로 기대됐다. 이번 연구성과는 미국화학회에서 발행하는 나노분야의 세계적인 권위지 `ACS나노` 9월호에 게재된다.



황 박사팀은 유기 반도체용 소자로 각광받는 펜타센 분자가 극자외선에 의해 상호결합이 일어난다는 사실을 확인하고 이를 이용해 나노미터 크기에서 높이와 폭의 조절이 가능한 30nm급 분자 패터닝에 성공했다.

현재 반도체 미세 패턴 제작 공정에는 주로 폴리머, 화학적 자기조립법을 이용한 분자막이 주로 사용지만 이들은 열적 안정성이 떨어지고, 전기적 오류를 일으키는 경우가 많다.

이번에 개발된 펜타센 나노패턴 기술은 진공상태에서 성장된 펜타센 분자막을 사용, 깨끗하고 안정성이 크며 패턴 제작 과정에서 잔류물이 거의 없다.

교과부와 포스텍이 지난 94년 공동 건립한 포항가속기연구소는 생명공학, 신약개발, 나노연구 등 선도적 연구분야의 핵심 국가공동연구시설로 활용되고 있다.

김유경기자 yukyung@etnews.co.kr