도쿄일렉트론, 경기도 화성에 반도체 제조 프로세스개발센터 설립

　도쿄일렉트론이 우리나라에 100억원을 들여 반도체 에칭장치용 제조 개발 거점을 설립한다.

　도쿄일렉트론은 총 10억여엔을 투자해 경기도 화성시에 있는 도쿄일렉트론코리아솔루션 내에 ‘프로세스 개발센터’를 설립할 계획이라고 20일 니혼게이자이 신문이 보도했다.

　한국 내 개발센터 건설은 전체 매출에서 삼성전자·하이닉스반도체 등 한국업체가 차지하는 비중이 13.7%에 이르러 이들 기업과 거래 관계를 강화하기 위한 것으로 풀이된다. 개발센터에는 우선 주사전자현미경(SEM)과 웨이퍼 검사장비 등이 도입되며 총 인원은 5명으로 시작한다.

　회사 측은 “에칭 장치는 고객별로 미세하게 다른 제조 공정에 따라 설계 변경이 빈번하게 발생한다”면서 “삼성전자나 하이닉스의 요구에 신속히 대응하면서 수주 물량을 끌어 올리겠다”고 밝혔다.

　명승욱기자@전자신문, swmay@