인텔·ST마이크로 노어플래시 표준화 공조 배경

　인텔과 ST마이크로가 6일 아시아지역 기자들을 대상으로 한 콘퍼런스콜(전화간담회)를 통해 두 회사간 노어플래시분야 협업을 공식 선언하면서 그 배경에 플래시메모리업계의 관심이 모아지고 있다. 이는 노어플래시 3위권 업체 가운데 2곳이 사실상 공조체제 구축을 발표한 것이어서 ‘공격적 전략이냐’ 아니면 ‘수성 전략이냐’를 놓고 분석이 분분하다. 본지 12월 6일자 1면 참조

　이날 콘퍼런스콜에서 인텔의 에드 달러 CTO와 ST마이크로의 쥬세페 크리센자 메모리그룹 부사장은 휴대폰시장용 플래시메모리시장에서는 현재 노어플래시가 95% 이상을 장악하고 있으며 이같은 추세는 향후 지속될 것이라고 밝혀 두 회사 모두 휴대폰시장에 집중하고 있음을 내비쳤다.

　이번 양사의 협업은 90나노 512Mb 노어플래시메모리를 시작으로 65나노 1Gb-4Gb, 45나노 8Gb-16Gb 까지 지속적으로 기술을 공동 개발한다는 것이 핵심이다. 특히 공통의 플래시메모리 서브시스템(표준 규격)을 통해 양사가 호환가능한 하드웨어 및 소프트웨어 메모리 제품을 시장에 출시함으로써 노어플래시 시장의 표준을 주도한다는 계획이다. 그러나 생산은 각각 별도로 진행해 협력을 기반으로 한 ‘경쟁체제’도 유지한다.

　이번 제휴를 ‘공격적 전략’으로 보는 입장은 결국 노어플래시메모리시장에서 양사가 표준 등을 포함한 지배력을 공고히 하는 계기가 된다는 점 때문이다. 특히 표준화 및 공동 개발을 통해 제조비용을 낮춰 나감으로써 기술·가격 등에서 경쟁력을 높여나간다는 것이다. 또 노어분야 경쟁사인 스팬션을 견제하는 효과도 거둘 수 있다.

　‘수성 전략’으로 보는 시각은 메모리업계 관례상, 공정이 아닌 제품 개발에 있어서는 독자적인 추진이 일반적임에도 이 분야에서 협력하는 것은 공동 대응을 통해 투자비를 줄이면서 휴대폰시장 만큼은 낸드진영에 내주지 않겠다는 의도가 숨어있다는 해석이다.

심규호기자@전자신문, khsim@