소디프신소재(대표 하영환·박용길 http://www.sodiff.co.kr)가 반도체·LCD용 특수가스사업 다변화에 나섰다.
반도체·LCD 공정용 세정가스인 삼불화질소(NF3)를 생산하는 이 회사는 경북 영주에 반도체 산화막 재료로 쓰이는 실란(SiH4) 공장을 준공했다고 23일 밝혔다.
SiH4는 반도체 웨이퍼 위에 트랜지스터를 만들기 위한 산화막을 형성하는 특수 가스로 지금까지 수입에 의존해 왔다. 이 회사는 연 300톤 규모의 생산 시설을 최근 완공하고 내년 1월부터 시제품을 내놓을 계획이다.
또 소디프신소재는 국내 업체로는 처음으로 연 50톤 규모의 육불화텅스텐(WF6) 공장을 가동, 하반기부터 국내 주요 반도체 업체에 공급하고 있으며 해외업체 승인도 진행 중이다. WF6는 웨이퍼의 층과 층 사이 절연막에 신호를 전달해 주는 플러그를 만드는 특수가스이다.
주력인 NF3 라인도 올해부터 연 900톤 규모로 확대 가동, 세계 2위권의 NF3 업체로 올라섰다.
이번 사업 다각화로 소디프는 반도체용 특수가스 분야 전반으로 영역을 확대하면서 국내외 시장에서 세계 주요 가스 업체들과 경쟁을 벌이게 될 전망이다.
황기현 전무는 “수입에 의존하던 반도체·LCD용 특수가스의 국산화와 시장 개척에 주력할 것”이라고 말했다.
한세희기자@전자신문, hahn@
사진/소디프신소재의 가스 생산 라인.
