차세대 반도체 분석방법 신규표준으로 제안

우리나라가 1나노미터의 정확도를 갖는 반도체용 박막의 비파괴 분석방법을 세계 최초로 개발해 국제표준화기구에 신규표준으로 제안했다.

　산업자원부 기술표준원은 지난 5월 국제표준화 총회에서 우리나라가 개발한 반도체 박막의 비파괴 분석방법에 대한 발표를 마쳤으며 전자현미경의 종주국인 일본 및 유럽국가들이 관심을 보여 규격안 제출을 요청받았다고 18일 밝혔다.

　1나노미터는 머리카락 굵기의 10만분의 1 정도로 세밀한 정확도를 요하는 수준으로 이번에 개발된 분석방법은 우리나라에서 개발한 표면 미량 성분분석용 표준 시편을 이용해 투과전자현미경의 전자에너지손실분광법(EELS)에 적용, 반도체용 박막을 분석하는 기술이다.

　이번에 개발한 반도체 박막 분석기술의 국제규격화는 우리나라가 반도체뿐만 아니라 생산 및 평가장비 제조기술에서도 급격하게 성장하고 있어 선진국의 독점 영역인 반도체 장비 분야의 아성에 도전한 것으로 의의가 크다.

　산자부 소재부품표준과 김익수 과장은 “이번에 개발된 분석방법의 경제적 효과는 잘라 말하기 어렵지만 반도체 선진국으로서의 위상 제고는 물론이고 향후 기술료 수입대체 효과가 크게 발생할 것”이라고 말했다.

이경우기자@전자신문, kwlee@