나노구조물 제작기술 세계 첫 개발

우리나라 과학자가 미국 IBM연구진과 함께 세계 최초로 고분자 기판이나 금속 등 다양한 표면 위에서 나노 구조를 임의로 제작하고 제어할 수 있는 획기적인 나노 기반기술을 개발했다. 이는 지금까지 실리콘 웨이퍼 표면으로만 한정됐던 고분자 조합체의 나노구조물 제작 범위가 반도체 물질, 금속, 고분자 등 다양한 범위로 확대될 수 있는 길을 열었다는 의미를 가진다.

　차세대 고밀도 정보저장 매체와 나노 바이오칩 개발의 획기적 전환점을 제공할 것으로 평가받고 있는 이번 성과는 세계적 과학잡지인 미국 ‘사이언스’와 ‘케미컬 엔지니어링 뉴스(C&E News)’ 등을 통해 소개될 전망이다.

　포항공대 석·박사 출신인 류두열 미 매사추세츠주립대 연구원(박사후 과정·36·사진)은 IBM사와의 공동연구를 통해 다양한 물질 표면에서 나노구조를 임의로 조절할 수 있는 표면 변형 기술을 개발하는 데 성공, 이 결과를 세계적 과학저널인 미국 ‘사이언스’ 8일자에 발표했다.

　류 박사는 열을 가하면 단단하게 굳어지는 열경화 반응을 이용해 실리콘 웨이퍼뿐만 아니라 금속, 반도체 물질, 고분자 물질 등 다양한 물질의 표면 위에 6nm(1nm는 10억분의 1m) 크기의 초박막을 생성하고, 이를 토대로 고분자 조합체(블록공중합체:Block Copolymer)의 나노구조를 수직으로 배열하는 데 성공했다. 이는 물질을 구성하는 극미세 나노구조를 임의로 제작하고 제어하는 것이 가능해졌다는 의미한다.

　류 박사가 개발한 기술은 기존에 2∼3일 걸리던 초박막 형성 가공시간을 불과 10분 이내로 단축할 수 있게 돼 나노기술의 상용화를 크게 앞당길 것으로 평가받고 있다.

포항=정재훈기자@전자신문, jhoon@