[세미콘 코리아 2003]주요 참가업체(1)

　*주성엔지니어링

　주성엔지니어링(대표 황철주 http://www.jseng.com)은 반도체 제조공정에 쓰이는 건식식각장비를 비롯해 LPCVD·MOCVD·PECVD·UHVCVD·ALD 등 다양한 종류의 증착장비를 선보인다.

　이중 양산검증단계에 있는 건식식각장비(제품명 TACHYON)는 순수 국내기술로 개발된 제품으로 종전 직렬안테나의 단점을 극복하기 위해 병렬공명안테나란 독창적인 기술을 적용한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 방식의 제품이다.

　‘TACHYON’은 단일 RF코일로 균일한 플라즈마를 제공할 수 있기 때문에 300㎜ 이상의 대면적 웨이퍼 가공에 탁월한 성능을 발휘한다. 또 안테나의 유도성 저항을 줄임으로써 27㎒ 이상의 VHF영역의 RF에너지 사용이 가능해져 플라즈마의 효율이 높고 웨이퍼에 주는 손상을 최소화하는 장점이 있다.

　반도체 제조공정에서 나타나는 플라즈마에 의한 손상을 줄여 장비의 재현성 및 수율 향상을 기대할 수 있다. 시스템설치 측면에서도 200㎜와 호환 가능한 300㎜ 건식식각에 적합한 인라인 플랫폼을 채택, 설치면적을 최소화했다. 미세패턴의 마이크로로딩(micro-loading<±5%)과 CD디이어스 제어(0∼-20㎚) 측면에서 우수한 특성을 보인다.

　주성엔지니어링의 건식식각장비는 과학기술부와 산업자원부 공동지원사업인 시스템IC 2010의 지원과 산학협동(KAIST 등)으로 연구개발됐으며 차세대 나노식각에도 응용될 것으로 전망된다.

　

　*한국디엔에스

　한국디엔에스(대표 임종현 http://www.kdns.co.kr)는 반도체 포토공정에 사용되는 핵심설비인 스피너(모델명 K-SPIN12)를 발표한다. 스피너는 웨이퍼 표면에 고집적 미세회로를 형성하기 위해 감광액을 도포하고 노광 후 형성된 패턴을 현상하는 설비다.

　3C3D(3Coater 3Developer) 방식의 K-SPIN12는 코터와 디벨로퍼 영역을 차단하는 상하 적층구조로 각각의 영역에 별도의 베이크유니트(가열장치)와 반송로봇을 배치하는 새로운 개념의 구조를 도입, 상호간 환경영향을 최소화하고 생산성을 크게 향상시켰다.

　이 제품은 1G급의 집적도를 결정하는 회로선폭의 품질향상을 위해 멀티존 히터방식을 채택, 핫플레이트의 온도균일도를 기존의 제품보다 2배 이상 향상시켜 세계 최고의 성능을 갖췄다.

　함께 소개되는 웨트스테이션(모델명 K-WET300)은 반도체 제조과정에서 발생하는 미립자와 웨이퍼 표면의 불순물 제거 및 감광액 등의 에칭(식각)에 사용되는 세정·건조설비다. 이 장비는 기존 200㎜보다 세정력을 높이기 위해 원배스(one bath) 방식을 채택했다. 원배스 방식이란 단일 세척조에서 세척, 린스, 건조작업을 연속해서 처리하는 것을 말한다. 때문에 웨이퍼가 외부에 노출되지 않아 오염지수가 낮고 산화막 방지효과도 크다.

　이밖에도 한국디엔에스는 반도체 제조과정에서 웨이퍼 표면에 발생되는 0.1미크론급 초미세 먼지입자를 브러시 초음파 고압세정 등의 방식으로 세정·건조하는 스핀스크러버를 비롯해 300㎜ 드라이에처 등도 선보일 예정이다.

　

　*유니셈

　유니셈(대표 김경균 http://www.uni-sem.com)은 신개념의 가스스크러버와 칠러 등을 선보인다.

　가스스크러버는 반도체 제조에 필수적으로 사용되는 장비로 반도체 제조공정시 발생하는 유독가스를 정화하는 기능을 수행하며 이번에 집중 소개되는 제품은 전기히터 방식의 ‘제타(Zeta)’와 연료연소 방식의 ‘불칸(Vulcan)’ 등 2종이다.

　이중 제타는 전기히터 방식으로는 불가능하다고 여겨졌던 불화질소(NF3) 가스를 고온 전기히터로 분해 및 정화할 수 있도록 특수 설계됐으며 연료를 사용하지 않아 안전도가 높고 가스 흐름의 병목현상을 방지한 것이 특징이다.

　특히 2010년까지 과불화탄소(PFC) 가스의 배출량을 현재의 10% 수준으로 줄여야 하는 세계반도체협의회 규정을 준수하도록 PFC 가스의 60% 비중인 NF3 가스를 완벽히 제거할 수 있어 세계 최고의 경쟁력을 갖췄다는 게 회사측 설명이다.

　함께 소개되는 불칸은 기존 연료 연소방식을 채택한 신형 장비로 적은 연료를 사용해 섭씨 1000도의 고온환경에서 PFC 가스의 일종인 C2F6, SF6, CF4 가스를 처리할 수 있도록 제작됐다.

　국내 가스스크러버 시장에서 점유율 1위를 기록중인 유니셈은 이들 제품의 개발을 위해 지난 4년간 10여명의 연구인력을 투입했으며 장비개발과 동시에 총 28건의 특허를 국내외에 출원했다.

　이밖에 반도체 제조용 자동온도조절장치(칠러)도 출품한다.

　

　*한택

　반도체장비 제조업체인 한택(대표 한종훈 http://www.hantech.co.kr)은 신개념의 반도체공정용 세정장비인 레이저 건식세정장비를 출품한다.

　산업자원부의 환경친화적 청정생산기술개발사업의 일환으로 2년여 개발기간과 10명의 전문 연구인력, 20억원의 자금을 투자해 개발한 레이저 건식세정장비는 종전의 습식세정 공정을 대체할 수 있는 신기술로 평가된다.

　특히 기존 습식세정 공정에서 많은 양의 물과 화학약품의 사용으로 인한 환경오염, 고비용 문제 등을 해결할 수 있을 뿐만 아니라 소자의 경박단소화에 따른 청결도 향상요구, 새로운 재료와 공정의 개발에 따른 세정의 어려움 등을 해소했다.

　장비의 적용분야는 습식세정에서 세정되지 않거나 세정효율이 떨어지는 화학기계적연마(CMP) 공정 후 슬러리 제거, 유·무기 파티클 및 각종 잔유물 제거, RIE·HDI 공정 후 경화된 감광막 및 폴리머 제거, 웨이퍼 및 금속박막 표면의 거친정도 개선 등이 될 전망이다.

　이 장비는 크게 세정원인 레이저빔을 제공하는 레이저 발생부, 렌즈와 반사경을 이용해 빔을 전달하는 빔전달부, 세정공정이 이뤄지는 세정 프로세스부, 200㎜ 웨이퍼 이송부 등으로 구성돼 있다.

　한택은 200㎜ 장비개발 성공을 토대로 차세대 웨이퍼인 300㎜ 세정용 레이저 건식장비를 추가로 보강해 제품군을 다양화하는 동시에 해외 소자업체 대상의 세계시장 개척에도 나선다는 계획이다.

　

　*케이씨텍

　케이씨텍(대표 장성호 http://www.kctech.co.kr)은 사업부별로 주력 상품의 실물을 직접 전시하거나 장비홍보용 패널, 프레젠테이션 자료 등을 전시한다.

　이번에 중점 소개될 제품는 액정표시장치(LCD) 제조용 세정장비(웨트스테이션)다. 이밖에도 반도체용 웨트스테이션, 가스공급장치, 극저온 CO₂세정기 등 다양한 제품은 소개한다.

　LCD용 웨트스테이션은 지난해 삼성전자와 LG필립스LCD 등 국내 TFT LCD 제조업체에 공급돼 성능 및 안정성을 인정받은 것은 물론 중화권의 UMC, CPT 등에 대거 수출돼 기술력면에서나 부가가치면에서 이 회사의 효자상품으로 평가받고 있다.

　또한 케이씨텍은 차세대 주력상품으로 손꼽고 있는 극저온 CO₂세정기는 극저온 CO₂를 이용해 반도체 부품 등에 퇴적된 오염물질이나 표면의 오염입자를 제거하기 위한 장비다. 이 장비는 종전 화학적 세정기술에 비해 유해 폐기물의 배출이 전혀 없으며 세정속도가 단축될 뿐만 아니라 세정표면에 손상을 주지 않는 첨단장비다.

　극저온 CO₂세정기술을 세계 최초로 상용화한 케이씨텍은 기술개발 성과를 인정받아 국내 직무발명 경진대회에서 대통령상을 수상한 바 있다.

　이밖에도 케이씨텍은 이번 전시회에 가스캐비닛, VMB·VMP 등의 가스공급장치, 환경장비인 가스스크러버 등의 다양한 제품을 전시한다.

　이중 가스캐비닛은 반도체뿐 아니라 LCD, PDP, 유기EL, STN 등 평판디스플레이 제품이나 LED 제조공정에 사용되는 다양한 독성가스를 처리할 수 있다.

　

　*아토

　아토(대표 문상영 http://www.atto.co.kr)는 가스공급시스템, 가스스크러버, 가스정화장치 등 가스와 관련된 각종 장비와 반도체 전공정장비인 PE CVD 등을 출품한다.

　가스공급시스템인 ‘FA-2000시리즈’는 반도체 제조시 필수요소인 고압, 독성가스를 디바이스별 프로세스 특성에 맞게 압력을 조절해 안전하고 오염되지 않도록 공급하는 장치다.

　이 장치는 가스의 흐름을 차단·조절하고 배관 내 가스의 압력을 표시하거나 먼지를 제거하는 여러 부품 및 각 부품을 연결하는 튜브 등으로 구성된 배관계와 가스의 특성에 맞는 안전장치, 각 부품을 제어하고 용도에 맞게 운전할 수 있도록 프로그램화한 제어부 등으로 구성돼 있다.

　아토의 가스정화장치는 반도체 제조분야뿐만 아니라 액정표시장치, 디스플레이 등 고순도 가스를 사용하는 전 분야에 적용할 수 있는 범용장비로 장비의 대당 가격이 시스템 구성에 따라 1000만원에서 2억5000만원에 이르는 고부가가치 제품이다. 또 1G 이상의 용량을 제공하는 반도체 공정에서 반드시 사용해야 하는 장비여서 수요가 점차 확대되고 있다.

　PE CVD는 최근 아토가 국산화한 증착장비로 삼성전자 등에 공급돼 있으며 반도체 제조공정에서 절연막·금속배선막·보호막·평탄화막 등의 형성에 사용된다.

　아토의 이 장비는 저온에서도 고온의 공정에서 얻을 수 있는 박막형성이 가능하며 박막의 성분비 조정이 용이하며 신물질의 형성 및 신공정의 형성이 가능한 것이 특징이다.

　이밖에도 플라즈마 클리너는 환경규제 강화에 따라 수요확대가 예상되는 전자부품 내 유기불순물을 제거하는 산업용 장비로 BGA, 리드프레임, PCB 제조공정에 적용할 수 있다.

　<최정훈기자 jhchoi@etnews.co.kr>