니콘 캐논 차대장비 공동개발

　일본에서도 기업 연합을 결성, 차세대 반도체 제조 기술의 공동개발을 추진한다. 이에 따라 이미 이 분야에서 협력하고 있는 미·독 연합과의 차세대 기술 주도권 다툼이 한층 뜨거워질 전망이다.

　‘일본경제신문’에 따르면 일본 반도체 제조장비 업체인 니콘과 캐논은 2000년대 후반 실용화할 것으로 예상되는 차세대 반도체 제조장비의 공동개발에 나서기로 했다고 22일 밝혔다.

　특히 이들 두 회사는 자국 내 대형 반도체 제조업체와 기업 연합을 결성, 기술 협력을 하는 동시에 500억엔 정도로 예상되는 막대한 개발투자비도 분담해 이 분야에서 앞서 있는 인텔·IBM·인피니온테크놀로지 등 미·독 기업연합에 대항해 나갈 방침이다.

　이에 따라 니콘과 캐논은 곧 반도체 제조업체에 기업 연합 참여를 요청, 연내 10개사 정도로 공동연구에 착수할 계획이다.

　차세대 반도체 제조에는 회로 선폭을 극도로 미세화 하는 기술이 요구된다. 니콘과 캐논은 회로를 성형하는 스테퍼의 광원으로 파장이 아주 짧은 극자외선(EUV) 레이저를 사용, 초미세 회로 성형을 구현하는 기반기술의 개발을 추진할 계획이다. 오는 2004년까지 현재의 약 5분의 1인 선폭 0.03미크론의 실현을 목표로 하고 있다.

　EUV 레이저가 실용화하면 지금의 약 10배에 달하는 기억용량과 처리속도를 구현하는 차세대 반도체를 제조할 수 있다. 차세대 반도체 제조기술로 가장 유력시 되고 있는 이 기술 개발은 97년 형성된 미·독 기업 연합이 앞서고 있다.

　니콘과 캐논은 공동개발한 기반 기술을 바탕으로 각각 독자의 스테퍼를 제품화할 방침이다. 두 업체는 스테퍼 분야 세계 1, 3위로 자국내외에서 치열한 수주경쟁을 벌이고 있다.

　<신기성기자 ksshin@etnews.co.kr>