화학·원자층증착 신장비 봇물

화학증착(CVD), 원자층증착(ALD) 등과 관련한 신장비들이 하반기중 대거 상용화될 전망이다.

　13일 업계에 따르면 주성엔지니어링·아펙스·지니텍·아토 등은 그동안 자체개발한 특허기술을 활용한 증착장비의 양산모델을 하반기중 생산, 시장개척에 나설 예정이다.

　주성엔지니어링(대표 황철주 http://www.jseng.com)은 지난해 말과 올해 초 플라즈마화학증착(PECVD)·유기금속화학증착(MOCVD) 장비를 상용화한 데 이어 오는 3·4분기중 박막트랜지스터 액정표시장치(TFT LCD)용 CVD 데모장비를 선보일 예정이다.

　이 회사가 개발중인 TFT LCD용 CVD는 730×920㎜ 이상의 LCD 공정에 사용가능한 제품으로 구조를 단순화해 원가를 절감하고 오염요소를 최소화하기 위해 샤워헤드 방식이 아닌 인젝트 방식을 이용했다.

　이밖에도 주성엔지니어링은 소자업체와 공동으로 개발중인 ALD 장비도 연말 또는 내년 초께 상용화할 계획이다.

　아펙스(대표 김상호 http://www.apexsemi.com)는 저압화학증착(LPCVD) 방식에 비해 증착률을 현저히 개선한 매엽식 샤워헤드 방식의 라디칼화학증착(RACVD) 기술을 개발, 공개한 데 이어 최근 알파테스트가 마무리하고 베타버전 장비에 착수했다.

　이 회사는 데모장비 개발과 각 회사로부터 입수한 웨이퍼 테스트에 5억원을 투입, 이르면 3·4분기중 상용장비를 출하한다는 계획이다.

　지니텍(대표 이경수 http://wwwgenitech.co.kr)도 올해 초 기가급 D램 생산에 적용할 수 있는 플라즈마 ALD 기술을 세계 최초로 발표한 후 이 기술을 활용한 장비의 개발을 추진해왔으며 이달 말까지 데모장비 개발을 마치고 소자업체에 공급할 예정이다.

　이 회사는 기술발표에 앞서 지난해 말 하이닉스반도체에 장비를 공급, 안정성 테스트중이며 외국학회를 대상으로 한 기술발표 활동을 강화해 소자업체·연구소 등의 연구개발(R&D)시장을 공략하기로 했다.

　아토(대표 문상영 http://www.atto.co.kr)는 품목다양화 차원에서 진행중인 300㎜ 웨이퍼용 PECVD 개발을 하반기중 마무리하고 올해 안에 데모 제품을 완성, 시장에 진출할 예정이다.

<최정훈기자 jhchoi@etnews.co.kr>