POU 진공펌프 각광

반도체 일관생산(FAB)공장의 지하에 설치하던 기존의 방식에서 탈피해 청정실(클린룸)내에 설치, 웨이퍼 가공공정장비에 연결해 사용할 수 있는 새로운 개념의 진공펌프인 「POU(Point of Use)펌프」가 새롭게 부상하고 있다.

최근 반도체 소자업체들이 FAB 지하(sub-Fab) 공간협소 문제를 해결하고 배관설치 및 드라이펌프 추가구입비용을 절감하기 위해 진공장비업체들과 공동으로 클린룸내에서 운영할 수 있는 드라이펌프 도입에 본격 나섰기 때문이다.

이미 지난해부터 외국의 반도체 소자업체들은 「POU펌프」를 적용하기 시작했으며 국내 반도체업체들도 올해부터 본격적으로 「POU펌프」를 클린룸내에 구축하고 있는 것으로 알려졌다.

이로써 클린룸에서 sub-Fab까지의 배관설치가 필요없어 이에 따른 배관비용 절감은 물론 배관길이 만큼 펌핑시간을 줄일 수 있게 됐다.

아울러 사이클 시간이 단축되면서 반도체 생산성을 높이고 기존에 진공펌프가 차지하던 sub-Fab의 공간을 절약할 수 있다.

반도체 제조공정용 진공펌프업체들도 활발하게 「POU펌프」 개발에 나서고 있는데 성원에드워드(대표 김중조)는 기존 진공펌프 개념에서 탈피한 「IPX 드라이펌프」의 구축에 나섰다.

알카텔·레이볼트 등 동종 진공펌프 제조업체들도 클린룸내에서 공정장비와 연결해 사용할 수 있는 드라이펌프의 공급에 뛰어들고 있어 「POU펌프」가 새로운 개념의 진공펌프 모델로 자리잡을 전망이다.

<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>