[SEDEX KOREA 2000]출품업체(앞공정 부문)-아이피에스

반도체 제조용 앞공정장비 업체인 아이피에스(대표 이용한 http://www.ips-tech.com)는 식각장치(etcher) 및 원자층증착(ALD: Atomic Layer Deposition)장비, 스퍼터링(sputtering)장비를 선보인다.

식각장치인 「Nano-Etch」는 저압에서도 균일한 플라즈마를 생성시키는 페라이트(ferrite)가 사용된 MICP(Multipole Inductively Coupled Plasma) 소스를 내장해 이온과 전자밀도를 효과적으로 제어하며 플라즈마가 소자에 미치는 영향을 감소시키는 특징을 갖고 있다. 또한 체임버당 25장 이상의 높은 생산력을 제공하며, 폴리(poly)뿐 아니라 메탈·옥사이드 등의 식각공정 조건 변경시 최소한의 시스템 변경으로 적용 공정이 가능하다.

원자층증착장비 「Nano-ALD」의 경우 표면 제어 반응 방식을 채택해 단결정의 에피텍셜(epitaxial) 박막 증착과 선택적 화학 기상 증착을 할 수 있다. 특히 저온에서 초당 수 옹스트롬 단위로 불순물 함유가 적은 박막을 증착할 수 있어서 기가급 메모리와 초고속의 차세대 비메모리 제조에 적용할 수 있다.

스퍼터링 장비 「MS2100」은 클러스터(cluster) 툴을 이용한 독립 모듈구조를 갖춰 기존의 공정환경을 유지하면서 다양한 멀티 스텝(multi step)의 박막증착이 가능하다. 독립 체임버에서 진행되는 공정은 가스 또는 물리적인 오염의 가능성을 배제해 뛰어난 공정 특성을 제공한다.